粉體行業(yè)在線展覽
電鍍設(shè)備
面議
盛美半導體
電鍍設(shè)備
944
脈沖局部電鍍技術(shù)
適用于超薄種子層
高產(chǎn)能
獨立模塊設(shè)計
低耗材成本COC和運行成本COO
設(shè)備應(yīng)用于300毫米晶圓
*多可配至3個Load Port
*多可配至4個電鍍腔體配備脈沖局部電鍍功能
*多可配至4 個清洗腔體
*多可配至8個退火腔體
電鍍均一性:
WIWNU < 1.5%
WTWNU < 1.5%
電鍍設(shè)備X
單片清洗設(shè)備
Post-CMP清洗設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備
濕法去膠設(shè)備
濕法刻蝕設(shè)備
顯影設(shè)備
涂膠設(shè)備
電鍍設(shè)備A
PECVD設(shè)備
前道涂膠顯影設(shè)備
立式爐設(shè)備
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
EXAKT 80E