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>膜厚量測儀　FE-300

品牌展臺：大塚電子（蘇州）有限公司

膜厚量測儀　FE-300

FE-300

直接聯(lián)系

大塚電子（蘇州）有限公司

江蘇

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報價：

面議

品牌：

大塚電子

型號：

FE-300

關(guān)注度：

4039

產(chǎn)品介紹

特　長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學(xué)薄膜量測儀

藉由**反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能

無復(fù)雜設(shè)定，操作簡單，短時間內(nèi)即可上手

線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)（n:折射率、k:消光系數(shù)）

測量項目

**反射率測量
膜厚解析（10層）
光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、k：消光系數(shù)）

產(chǎn)品規(guī)格

軟體功能
	FE-300V	FE-300UV	FE-300NIR※1
對應(yīng)膜厚	標(biāo)準型	薄膜型	厚膜型	超厚膜型
樣品尺寸	**8寸晶圓（厚度5mm）
膜厚范圍	100nm ~ 40μm	10nm ~ 20μm	3μm ~ 300μm	15μm ~ 1.5mm
波長范圍	450nm ~ 780nm	300nm ~ 800nm	900nm ~ 1600nm	1470nm ~ 1600nm
膜厚精度	±0.2nm以內(nèi)※2		-
重復(fù)再現(xiàn)性（2σ）	±0.1nm以內(nèi)※3		-
測量時間	0.1s ~ 10s以內(nèi)
量測口徑	約φ3mm
光源	鹵素?zé)?/p>	UV用D2燈	鹵素?zé)?/p>	鹵素?zé)?/p>
通訊界面	USB
尺寸重量	280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg
標(biāo)準功能	波峰波谷解析、FFT解析、適化法解析、小二乘法解析
選配功能	材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準片解析

※1 請于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對比VLSI標(biāo)準樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標(biāo)準樣品（100nm SiO2/Si）同一點位時之重復(fù)再現(xiàn)性。（擴充系數(shù)2.1）

應(yīng)用范圍

半導(dǎo)體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學(xué)薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）

測量范例

PET基板上的DLC膜

Si基板上的SiNx

獲取更多信息，請訪大塚電子（蘇州）有限公司網(wǎng)站

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膜厚量測儀　FE-300

FE-300

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膜厚量測儀　FE-300 - 4039

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