粉體行業(yè)在線展覽
擴(kuò)散氧化爐(科研型)
面議
艾科威
擴(kuò)散氧化爐(科研型)
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技術(shù)指標(biāo)
●適用晶片尺寸 : 2~8英寸圓片
●工作溫度: 600℃~1300℃;
●可配工藝管數(shù)量:1~2管/臺
●恒溫區(qū)長度及精度:≤±0.5℃/300~600mm (800℃~1300℃),
● 單點溫度穩(wěn)定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃);
●溫度斜變能力:**升溫速率20℃/min,**降溫速率5℃/min;
TC2000EXW半導(dǎo)體制冷恒溫槽
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)( RIE )
離子束刻蝕機(jī)
磁控濺射鍍膜機(jī)
管式真空爐
低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備( LPCVD)
雙管立式爐
擴(kuò)散氧化爐(科研型)
擴(kuò)散氧化爐(生產(chǎn)型)
立式爐