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設(shè)備特點(diǎn)

●可滿足閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴(kuò)散、退火常壓、退火/推進(jìn)、合金等工藝

●采用高可靠性工控機(jī)+PLC模式，對爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閥門進(jìn)行全自動控制,實(shí)現(xiàn)全部工藝過程自動化；

●具有友好的人機(jī)界面，用戶可以方便地修改工藝控制參數(shù)，并可隨時顯示各種工藝狀態(tài)；

●具有多種工藝管路，可供用戶方便選擇；

●具有強(qiáng)大的軟件功能，配有故障自診斷軟件，可大大節(jié)省維修時間；

●恒溫區(qū)自動調(diào)整，串級控制，可準(zhǔn)確控制反應(yīng)管的實(shí)際工藝溫度；

●具有超溫、斷偶、熱偶短路、工藝氣體流量偏差報警和保護(hù)功能； 

●可根據(jù)用戶要求定制產(chǎn)品。

技術(shù)指標(biāo)

●適用晶片尺寸 ：  2~8英寸圓片

●工作溫度： 600℃～1300℃； 

●可配工藝管數(shù)量：1~4管/臺

●恒溫區(qū)長度及精度：≤±0.5℃/600~800mm （800℃～1300℃），

● 單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性：≤±0.5℃℃ /24h （1100℃）； 

●溫度斜變能力：**升溫速率20℃/min，**降溫速率5℃/min； 

應(yīng)用范圍

　　半導(dǎo)體集成電路、先進(jìn)封裝、電力電子（IGBT）、微機(jī)械（MEMS）、光伏電池（Photovoltaic）制造等領(lǐng)域，適用2~8英寸工藝尺寸擴(kuò)散、氧化、退火及合金工藝