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我們所提供的紫外臭氧清洗系統(tǒng)是一種簡單，經(jīng)濟(jì)，高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時間，按下運(yùn)行按鈕，就可以在幾分鐘內(nèi)，快速去除大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而不留痕跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。

應(yīng)用工藝：

?改善表面親水性

?表面清洗

?準(zhǔn)備薄膜沉積

?表面處理

?紫外固化

?表面滅菌消毒

?去除表面單分子膜

?表面氧化

?清洗AFM / STM探針

?清洗光學(xué)元件

可清洗的基材示例：

?石英

?硅

?氧化硅

?氮化硅

?金

?鎳

?鋁

?砷化鎵

?礬土

?玻璃

?不銹鋼

可去除的污染物示例：

?光刻膠

?樹脂

?人體皮膚油脂

?清洗溶劑的殘留物

?塑料/硅片表面油漬

?助焊劑

產(chǎn)品特點：

?成本低；

?120x120mm樣品臺；

?**處理樣品高度為14mm；

?抽屜式樣品臺，簡單方便；

?樣品臺自安全聯(lián)鎖，防止對人身傷害；

?LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；

?60分鐘計時器；

?高強(qiáng)度紫外線燈源；

?可控溫的樣品臺；

?樣品清洗無需溶劑；

?超凈表面。

產(chǎn)品參數(shù)：

下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響，以改善表面親水性。

水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上，經(jīng)過紫外臭氧清洗處理前（左圖）和處理后（右圖）的效果對比。