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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
面議
杭州晶馳
第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
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設(shè)備采用雙工位設(shè)計(jì),全封閉工作臺和強(qiáng)排風(fēng)系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強(qiáng)堿腐蝕、快速清洗,再次超聲清洗和晶片烘干為一體,充分避免了操作人員與腐蝕性強(qiáng)堿溶劑的接觸。整個(gè)工藝流程全部自動化控制,操作人員只需完成取放片操作,腐蝕效率高,適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
DRY-60A型熱處理爐(電動)
水平雙腔外延爐
單腔立式外延爐
第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
915MHz微波等離子體沉積系統(tǒng)(裂縫天線耦合)
裂縫耦合微波等離子體沉積系統(tǒng)
拋物面環(huán)形天線微波等離子體沉積系統(tǒng)
小圓柱式微波等離子體沉積(CVD)系統(tǒng)
濾布自動清洗裝置
空罐殺菌機(jī)
立式滅菌器Systec V 系列
微波盒飯加熱殺菌機(jī)
碎玻璃清洗機(jī)
MQ-25
等離子清洗機(jī) LPC-100
連續(xù)式醫(yī)藥微波殺菌設(shè)備
攪拌樓下洗車機(jī)
高純石英砂篩分清洗生產(chǎn)線
陶瓷盤清洗機(jī)