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ETD-900型離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。

適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

特點(diǎn)：

1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)；

2. 濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得**鍍膜效果；

3. 特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象；

4. 根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。