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SUSS MicroTec的半自動(dòng)濕處理系統(tǒng)AD12為水介質(zhì)應(yīng)用提供了**的清潔和開發(fā)功能。單晶片處理平臺(tái)可用于工件，晶片尺寸高達(dá)300mm，方形基板高達(dá)230mmx230mm，用于晶片的帶框高達(dá)300mm。它處理各種媒體和過程的能力提供了在應(yīng)用程序之間切換所需的靈活性，使該工具成為研究環(huán)境和小規(guī)模生產(chǎn)的**。

**的靈活性

SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12通過使用優(yōu)化的卡盤處理多種不同類型的基板，展示了其多功能性。即使是易碎的襯底（例如InP、GaAs）也可以安全地處理。特殊工具和廣泛的易于調(diào)節(jié)的過程參數(shù)表使SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12適用于涉及水介質(zhì)的許多過程應(yīng)用。該系統(tǒng)能夠編程參數(shù)，如步長時(shí)間、旋轉(zhuǎn)速度、加速度和減速度、分配臂位置和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，允許優(yōu)化工藝流程，從而產(chǎn)生可重復(fù)和穩(wěn)定的工藝結(jié)果。AD12配備了SUSS MicroTec復(fù)雜的分配技術(shù)，有效地支持開發(fā)和清潔

復(fù)雜的分配技術(shù)

SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12為不同的工藝需求提供了廣泛的分配技術(shù)?？梢赃\(yùn)行多種過程：從簡單的膠泥或噴霧顯影到剝離，除了用于浸泡和*終沖洗的膠泥分配器外，還需要用于剝離抗蝕劑和金屬的高壓分配器。上述所有分配技術(shù)都可以在SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12的分配臂上配置。

水介質(zhì)系統(tǒng)

SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12是為處理水介質(zhì)的特殊需要而定制的。與工藝化學(xué)品接觸的所有零件均由不易受影響的材料制成。排水管可以連接到房屋排水管或廢物罐。

介質(zhì)安全存儲(chǔ)在配有排氣連接的介質(zhì)存儲(chǔ)器中，并由泄漏檢測(cè)器固定。流量控制系統(tǒng)和壓力調(diào)節(jié)器管理介質(zhì)。可選地，可以控制介質(zhì)溫度以確保**工藝結(jié)果。可以安裝介質(zhì)再循環(huán)系統(tǒng)，以減少總體介質(zhì)消耗。

操作簡單安全

SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12易于操作和維護(hù)。只需按下一個(gè)按鈕，即可調(diào)用工藝參數(shù)和介質(zhì)數(shù)據(jù)?？删幊膛浞郊涌炝斯ぷ髁鞒?，促進(jìn)了重復(fù)性。所有零件均易于接近，便于操作和維護(hù)工具。此外，該工具的設(shè)計(jì)主要側(cè)重于操作安全。帶有自動(dòng)安全玻璃門的密封工藝室確保了封閉的工藝環(huán)境，并便于對(duì)工藝進(jìn)行監(jiān)控。聯(lián)鎖傳感器保證工具的安全操作。