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單片式濕法清洗設(shè)備

單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300

直接聯(lián)系

青島佳鼎半導(dǎo)體

山東

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

佳鼎半導(dǎo)體

型號(hào):

單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300

關(guān)注度:

535

產(chǎn)品介紹

隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展,工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28納米以及14nm等更先進(jìn)等級(jí),隨著工藝流程的延長(zhǎng)以及越趨復(fù)雜,每個(gè)晶片在整個(gè)制造過(guò)程中需要超過(guò)200道清洗步驟, 晶圓清洗變得更加復(fù)雜、重要以及富有挑戰(zhàn)性; 清洗設(shè)備以及工藝也必須推陳出新,使用新的戶(hù)物理及化學(xué)原理,在滿(mǎn)足使用者的工藝需求條件下,也兼顧降低晶圓清洗成本和兼顧環(huán)境保護(hù);

  • 減少材料損傷(material loss); 

  • 孔洞的清洗能力;

  • 防止晶片結(jié)構(gòu)損傷(pattern damage);

  • 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ;

  • 晶圓可靠性改善;

單片濕法設(shè)備的工藝應(yīng)用

  • 去膠及去膠后清洗

  • 爐管及長(zhǎng)膜前清洗

  • 氧化層/氮化硅蝕刻

  • 銅/鈦金屬蝕刻

  • 聚合物去除

  • 擦片清洗

  • 化學(xué)機(jī)械研磨后清洗

單片清洗的亮點(diǎn) 

  • 可以提供完整的濕法工藝解決方案,及前瞻的技術(shù)規(guī)劃。

  • 設(shè)備及工藝已經(jīng)通過(guò)國(guó)際一線(xiàn)大廠(chǎng)的驗(yàn)證。

  • 設(shè)備平臺(tái)及腔體設(shè)計(jì)種類(lèi)多,可滿(mǎn)足客戶(hù)不同條件。

  • 多層式結(jié)構(gòu)腔體設(shè)計(jì),化學(xué)品回收率**可以達(dá)到95%以上。

  • 自動(dòng)清洗功能(腔體、排風(fēng)口、 化學(xué)品噴嘴及手臂),可避免交叉污染及減少微粒子。 

  • 先進(jìn)的自動(dòng)工藝控制功能(片/批次),可以改善產(chǎn)品的均勻性。

  • 可靠的視覺(jué)辨識(shí)功能,能立即偵測(cè)設(shè)備異常,預(yù)防產(chǎn)品異常。

  • IPA 干燥功能,可以減少微粒子及水痕。

ULTRON S2XX/S3XX

設(shè)備平臺(tái): ULTRON S-Series

晶圓尺寸: 200mm/300mm, 

相關(guān)技術(shù): 全自動(dòng)旋轉(zhuǎn)式濕法清洗 適用制程: 晶體管, 連接體, 圖形化, 先進(jìn)內(nèi)存, 封裝


名           稱(chēng)

描                            述

型號(hào)

?   ULTRON  S2XX

?  ULTRON S3XX

晶圓尺寸

?   200mm

?  300mm

上料端口

?   4個(gè)

?  4個(gè)

工廠(chǎng)自動(dòng)化

?   OHT possible

?  OHT possible

腔體

?   8個(gè)

?  12個(gè)雙層三排

化學(xué)品供應(yīng)

?   多腔體可用

?  多腔體可用

產(chǎn)能

?   Max=295

?   Max=590

機(jī)械手臂

?   Index Robot : 1個(gè)
      晶圓傳送機(jī)械手:2個(gè)

?   Index Robot : 1個(gè)
     晶圓傳送機(jī)械手:2個(gè)

尺寸

?   2520(W)x 4180(D) x3800(H)

?   2400(W)x 4720(D) x2555(H)


產(chǎn)品咨詢(xún)

單片式濕法清洗設(shè)備

單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300

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