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面議
539
電子束蒸發(fā)技術(shù)
NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內(nèi),二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預(yù)真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,實(shí)現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,他可以通過第三方的預(yù)真空鎖來實(shí)現(xiàn),這可以設(shè)置于立方體的左側(cè)。通過PC計(jì)算機(jī)控制,系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力,以及對組分或組分梯度進(jìn)行編程的能力。
NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點(diǎn):
順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)
雙電子束源
多凹槽電子槍
可編程電子束掃描
10KW開關(guān)電源
渦輪分子泵,極限真空5x10-7Torr
手動上下載片,帶預(yù)真空鎖
材料和襯墊更換非常方便
晶振式膜厚監(jiān)測儀
通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)控制
菜單驅(qū)動,四級訪問密碼保護(hù)
完全的安全聯(lián)鎖
NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Features:
Sequential or Co-Evaporation
Dual E-Beam Source
Multi-Pocket E-Gun
Programmable Beam Scan
10 KW Switching Power Supply
Turbomolecular Pump, 10-7Torr
Manual Load/Unload w/Load Lock
Easy Material and Liner Change
Crystal Thickness Monitor
PC Controlled with LabVIEW
Recipe Driven, Password Protected
Fully Safety Interlocked
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)