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CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
面議
威泰科技
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
1488
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備詳情
CVD設(shè)備適用于熱絲法化學(xué)氣相沉積金剛石,采用鎢絲/鉭絲作為加熱器,加熱分解碳物質(zhì),激活化學(xué)氣相反應(yīng),制備金剛石膜。
安裝形式 | 立式 |
加熱器分布方式 | 圓周分布 |
加熱器材質(zhì) | 鎢絲/鉭絲 |
保溫材料 | — |
MAX溫度 | 3000℃ |
控溫精度 | ±1℃ |
均溫性 | ±5℃ |
極限真空度 | 5×10-4Pa |
均溫區(qū)尺寸 | 按客戶要求定制 |
控制方式 | 自動(dòng)/手動(dòng) |
VHP-H 真空熱壓爐(臥式)
VSF-V 石英砂熔融爐
VSF-P 真空-高壓氣氛燒結(jié)爐
VPI-M 真空壓力浸漬設(shè)備
VHP-V 氮化硼真空熱壓爐(立式)
VHP 防彈陶瓷連續(xù)真空熱壓爐
VHP-D “一拖二”真空熱壓爐
VSF-H 真空紅外釬焊爐
VDSF 真空脫脂燒結(jié)爐
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
VSF-H 一體式真空釬焊爐
VSF-H 臥式真空釬焊爐
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD