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面議
621
蔭罩掩膜對(duì)準(zhǔn)器 Shadow Mask Aligner
設(shè)備簡(jiǎn)介:
本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對(duì)準(zhǔn)蔭罩掩膜和晶圓??梢苑庞谡婵涨惑w用于PVD工藝。沉積后,夾盤可以打開(kāi),晶圓和掩膜可以不破壞的分離,并且掩膜板可以重復(fù)利用。
夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求,并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟(jì)的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。
產(chǎn)品型號(hào):SMA-100,SMA-150,SMA-200
晶圓和蔭罩尺寸:100mm,150mm,200mm,取決于設(shè)備的配置
樣品臺(tái)特征:
X和Y方向范圍:步進(jìn)10μm,靈敏度2μm
Z方向范圍:步進(jìn)10μm,靈敏度2μm
旋轉(zhuǎn)角度:360°不間斷
傾斜:工廠校準(zhǔn),工程師手動(dòng)調(diào)節(jié)
對(duì)準(zhǔn)精度(濺射后)
線性對(duì)準(zhǔn):典型值6μm, ZUI大值10μm
旋轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn):0.001°到0.009°
夾盤
晶圓尺寸:100mm,150mm,200mm
夾盤材料:陽(yáng)極氧化鋁或非陽(yáng)極氧化鋁
夾盤厚度:20mm取決于晶圓和掩膜的厚度
蔭罩掩膜(客戶可定制蔭罩掩膜)
材料:硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷
儀器尺寸:500mm x 250mm
安裝需求:用于對(duì)準(zhǔn)過(guò)程中用來(lái)觀察的顯微鏡、真空
注:可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制。
優(yōu)點(diǎn):
精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建
用于PVD的減震夾盤
易用、對(duì)晶圓無(wú)損夾持機(jī)構(gòu)
由于真空夾持,可以在對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程簡(jiǎn)單操作
可以用于不同的晶圓尺寸
不需要安裝
低運(yùn)行成本
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)