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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD

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直接聯(lián)系

安徽澤攸科技有限公司

安徽

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

安徽澤攸

型號(hào)：

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD

關(guān)注度：

25

產(chǎn)品介紹

    多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻的方法將目標(biāo)氣體進(jìn)行電離，促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進(jìn)行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。

    目前項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)的CVD設(shè)備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導(dǎo)體表面）直接生長(zhǎng)以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡(jiǎn)單廉價(jià)，且具有傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長(zhǎng)工藝的兼容性。

    等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

    應(yīng)用案例

      CVD應(yīng)用——Graphene在任意襯底上的無催化生長(zhǎng)

      CVD應(yīng)用——外延Graphene/BN異質(zhì)結(jié)與摩爾超晶格

      CVD應(yīng)用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展

      CVD應(yīng)用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展2

      CVD應(yīng)用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控

      CVD應(yīng)用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控2

      CVD應(yīng)用——外延構(gòu)筑各種MoS2范德華異質(zhì)結(jié)

      CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長(zhǎng)

      CVD應(yīng)用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長(zhǎng)2


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    等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD

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