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等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

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安徽助研儀器有限公司

安徽

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品牌：

助研儀器

型號：

等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

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名稱：等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

型號：ZYE-1200-PE

簡介：為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)用于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜等

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等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

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