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CTS AIP300型全自動(dòng)CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

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微納（香港）科技有限公司

韓國

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

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1297

產(chǎn)品介紹

**、產(chǎn)品簡介：

韓國CTS公司的AIP300型CMP拋光機(jī)是一款12寸工業(yè)級(jí)CMP系統(tǒng)，可兼容4寸，6寸，8寸，12寸樣品，可用于工廠及小批量量產(chǎn)。

第二、產(chǎn)品主要特色：

1、CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，5區(qū)壓力獨(dú)立控制，可得到良好的工業(yè)級(jí)拋光效果；

2、自動(dòng)上下片，自動(dòng)拋光，干進(jìn)干出；

3、拋光墊修整器：擺臂式設(shè)計(jì)，由13個(gè)傳感器分別控制13個(gè)區(qū)域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

4、拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；

5，工藝數(shù)據(jù)可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)；

6、可存儲(chǔ)多個(gè)Recipe；

7、帶兩個(gè)手臂及自動(dòng)雙面清洗設(shè)備

第三、核心技術(shù)參數(shù)：

拋光頭	兼容4寸，6寸，8寸，12寸
拋光頭擺動(dòng)范圍	±15mm
拋光頭轉(zhuǎn)速	0-200rpm
拋光頭加壓方式	氣囊柔性加壓背壓功能（-區(qū)加壓）
拋光頭壓力范圍	0.14-14 psi
拋光盤尺寸	20英寸
拋光盤轉(zhuǎn)速	0-200 rpm
蠕動(dòng)泵	2個(gè)
拋光液流速	20-500 cc/min
拋光墊修整器分區(qū)	13區(qū)
拋光墊修整器在線掃描速度	10sweeps/min
拋光墊修整器下壓力	3-20lbs
拋光墊修整器轉(zhuǎn)速	0-150rpm
CMP后片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma，去邊5mm	< 5%
CMP后片間非均勻性WTWNU 1sigma，去邊5mm	< 3%
儀器尺寸	1000×2030×2100(W× L× H， mm)
冷卻系統(tǒng)	包含

四，應(yīng)用實(shí)例：

?CMP工藝 Si CMP，氧化物 CMP(BPSG， TEOS， ThOx)，金屬 CMP(W， Cu)，介質(zhì)膜，STI等

?工藝開發(fā)可協(xié)助客戶進(jìn)行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術(shù)開發(fā)

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