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TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備

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碳方程半導體設備制造（山西）有限公司

山西

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品牌：

碳方程

型號：

TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備

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產(chǎn)品介紹

TFC-6650C，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是***的 CVD 系統(tǒng)。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩(wěn)定中等壓強微波等離子體綜合設備。它具有智能化生長、性能先進、功能完善、結構合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點，特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。

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TFC-6650C化學氣相沉積（MPCVD）設備

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