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TFC-10800C化學氣相沉積(MPCVD)設備

TFC-10800C

直接聯(lián)系

碳方程半導體設備制造(山西)有限公司

山西

產品規(guī)格型號
參考報價:

面議

品牌:

碳方程

型號:

TFC-10800C

關注度:

481

產品介紹

特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積;材料表面處理和改性;低溫氧化物的生長等領域。image.png

產品咨詢

TFC-10800C化學氣相沉積(MPCVD)設備

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TFC-10800C化學氣相沉積(MPCVD)設備 - 481
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