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桌面型原子層沉積系統(tǒng)

MINI

直接聯(lián)系

廈門韞茂科技有限公司

福建

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報價：

面議

品牌：

韞茂科技

型號：

MINI

關注度：

2489

范圍（量程或細度）：

納米-微米

創(chuàng)新點：

產(chǎn)品詳情：桌面型原子層沉積系統(tǒng) 小巧緊湊，功能強大，專為科研定制而生，科研工作者的ALD鍍膜助手。

產(chǎn)品介紹

桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)

微信圖片_20220606163735.jpg

原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

產(chǎn)品描述

廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式 ALD 原子層沉積設備是先進材料研究的有力設備之一，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應用領域，設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、 ALD 前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場 RGA 、 QCM 、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項，是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的**研發(fā)工具

主要技術參數(shù)

Mini Desktop ALD 技術參數(shù) Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制備）
特色 Feature	結構緊湊，世界上極小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD
功能 Function	高端制造，功能強大，操作簡易，維護方便
樣品**尺寸	Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或幾克粉末
樣品反應溫度 Heating	RT-450℃
前驅(qū)體 Max Precursor	**可4組液態(tài)或固態(tài)反應前驅(qū)體, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized
前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating	RT-200℃
包覆均一性 Uniformity	<1% (Al2O3)
成膜速率 Deposition Rate	1A/Cycle (Al2O3)
臭氧發(fā)生器Ozone Generator	可選配，生產(chǎn)效率15g/h
人機界面 HMI	全自動化人機操作界面
安全Safety	工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO