國內高端粉末式原子層沉積系統(tǒng) GM系列

原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

產(chǎn)品描述

廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的**研發(fā)工具。

主要技術參數(shù)

G100 Powder ALD 技術參數(shù) Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備）
樣品**裝載量 Capacity	100g(可根據(jù)需求定制, 也可放置3D基體及多片平片
樣品反應溫度 Heating	RT-300℃
前驅體 Max Precursor	**可包括2組反應氣體 8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors
前驅體加熱**溫度 Max Precursor Heating	RT-200℃
包覆均一性 Uniformity	<3%
成膜速率 Deposition Rate	1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧發(fā)生器Ozone Generator	可選配，生產(chǎn)效率15g/h
人機界面 HMI	全自動化人機操作界面
安全Safety	工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO

G1000 Powder ALD 技術參數(shù) Technical Specifications (ZrO2, LiNbO3, Al2O3, LPT, LiS等制備）
樣品**裝載量 Capacity	1000g(可根據(jù)需求定制, 也可放置3D基體及多片平片
樣品反應溫度 Heating	RT-300℃
前驅體 Max Precursor	**可包括2組反應氣體 8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅體, Max 2 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors
前驅體加熱**溫度 Max Precursor Heating	RT-300℃
包覆均一性 Uniformity	<3%
成膜速率 Deposition Rate	1-2A/Cycle (Al2O3)
臭氧發(fā)生器Ozone Generator	可選配，生產(chǎn)效率15g/h
人機界面 HMI	全自動化人機操作界面
安全Safety	工業(yè)標準安全互鎖Industry Safety Interlock，報警Alarm，EMO