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  產(chǎn)品特征

出色的污染防護(hù)

全折射式投影物鏡提供了超長工作距，以及封閉式的物鏡和照明系統(tǒng)，避免光刻膠等有機(jī)物揮發(fā)造成光路污染。

工藝適應(yīng)性強(qiáng)

厚膠曝光時(shí)可通過調(diào)整NA來獲得更大焦深，支持高深寬比圖形曝光。擁有獨(dú)特的晶圓傳輸系統(tǒng)、垂向大行程工件臺(tái)系統(tǒng)和精密調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，可支持Fan-Out制程中的大翹曲片、鍵合片和厚片曝光工藝?？蛇x配紅外或可見光背面對(duì)準(zhǔn)方式，支持TSV和MEMS等制程所需的背面對(duì)準(zhǔn)。支持拓展至600mm×600mm方板曝光制程。

高精度

SSB500系列光刻機(jī)提供多種投影物鏡和曝光光源配置，分辨率可達(dá)到0.8~2μm，并具有高線寬均勻性。配置高精度MVS對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和低畸變投影物鏡，支持特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記，保證了高精度套刻性能。

高產(chǎn)率

SSB500系列光刻機(jī)配置了高照度照明系統(tǒng)、高速傳輸系統(tǒng)、高速高精度運(yùn)動(dòng)臺(tái)系統(tǒng)和大曝光視場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率，顯著降低客戶擁有成本。