粉體行業(yè)在線展覽
SSB200小Mask系列曝光機
面議
上海微電子
SSB200小Mask系列曝光機
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產(chǎn)品特征
高精度
精密的光學系統(tǒng)和先進的測校等技術,保證設備高分辨率,支持新型顯示屏的高精度曝光。
低使用成本
較低的運營和維護費用:采用標準6英寸掩模(或其加長版),2倍放大成像,顯著降低掩模費用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略,依靠優(yōu)良的控制能力,可實現(xiàn)更大尺寸顯示屏幕的拼接曝光。
工藝適應性強
支持多種基板尺寸,可選配紅外等多種對準光源波長,適應各種曝光工藝工況。具有多達45片工位的掩模版庫,每片獨立版盒,對生產(chǎn)制造非常方便。