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危險(xiǎn)化學(xué)品檢測(cè)專用儀器
藥物檢測(cè)專用儀器
氣體元素
面議
清質(zhì)分析
氣體元素
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影響
當(dāng)氧存在于晶體硅中時(shí),在后續(xù)的熱處理過程會(huì)使氧發(fā)生偏聚和沉淀,形成氧沉淀、氧施主等缺陷。
氮元素在硅材料中濃度超標(biāo)時(shí)會(huì)產(chǎn)生Si3N4顆粒,導(dǎo)致細(xì)晶的產(chǎn)生,進(jìn)而影響太陽(yáng)能電池的性能。
GDMS
氣體元素
GDMS靈敏度非常高,采用液氮制冷的方式,把離子源維持在低溫環(huán)境中,可以有效降低輝光放電室中的干擾分子,同時(shí)提高輝光放電的穩(wěn)定性,降低熱效應(yīng)所造成的基體效應(yīng),GDMS擁有高真空度,可達(dá)1.0E-9mbar及以下,氣體背景非常低,氣體元素檢出限可以達(dá)到10個(gè) ppb級(jí)別。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)