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磁控蒸發(fā)復(fù)合鍍膜機(jī)JCPF2600
面議
北京泰科諾
磁控蒸發(fā)復(fù)合鍍膜機(jī)JCPF2600
293
設(shè)備型號:JCPF2600
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304 方箱式
真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空:優(yōu)于 5.0x10-5Pa
基片臺尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度:常溫
濺射靶:矩形平面靶1套,旋轉(zhuǎn)柱狀靶2套
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:15000mmx5000mm
供電總功率:≥ 20kW 三相五線制
大面積平板鍍膜設(shè)備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
EXAKT 80E