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熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

直接聯(lián)系

北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

北京泰科諾

型號(hào):

熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

關(guān)注度:

312

產(chǎn)品介紹

設(shè)備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備

設(shè)備型號(hào):HF1200

真空腔室結(jié)構(gòu):立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)

基片臺(tái)尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(tái)(旋轉(zhuǎn)、升降可選)

襯底溫度:600 ~ 1100℃

電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

氣路控制:4 路氣體流量控制

控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制

占地面積:主機(jī) L5000mm×W3000mm×H4000mm

總功率:≥ 300kW

設(shè)備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備

設(shè)備型號(hào):HF1200

真空腔室結(jié)構(gòu):立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)

基片臺(tái)尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(tái)(旋轉(zhuǎn)、升降可選)

襯底溫度:600 ~ 1100℃

電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

氣路控制:4 路氣體流量控制

控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制

占地面積:主機(jī) L5000mm×W3000mm×H4000mm

總功率:≥ 300kW


產(chǎn)品咨詢

熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

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