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高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

直接聯(lián)系

北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

北京泰科諾

型號(hào):

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

關(guān)注度:

288

產(chǎn)品介紹

設(shè)備型號(hào):JCPY500 

真空腔室結(jié)構(gòu):后置抽氣系統(tǒng)

真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能 支持單片或多片進(jìn)取樣

加熱溫度 :室溫~ 500℃

基片臺(tái)尺寸:Φ150mm

膜厚不均勻性 :Φ100mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0%

濺射靶 :Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支(可選)

工藝氣體 :3 路氣體流量控制

控制方式 : PLC/PC(可選)

占地面積 (主機(jī)) :L1800mm×W800mm×H1845mm

總功率 :≥ 15kW

適用范圍.jpg


大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備


特點(diǎn)用途.jpg


1. 可提供工藝技術(shù)支持,及良好售后服務(wù);

2. 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射,兼容 DC/MF/RF 濺射等功能 。

4. 可制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕摸、透明導(dǎo)電膜,如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導(dǎo)電層ITO膜層的制備等”;



產(chǎn)品咨詢

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

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