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熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
面議
北京泰科諾
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
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用于生長毫米級金剛石厚膜、納米晶金剛石涂層或微米晶金剛石涂層、類金剛石膜、氮化硅和氧化硅膜等,在切削刀具、模具、
絲錐、BDD 水處理電極等表面沉積金剛石薄膜。
熱絲化學(xué)氣相沉積金剛石技術(shù),已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)多家用生產(chǎn)金剛石刀具的生產(chǎn)線上。全自動化控制及設(shè)備工藝、技術(shù)穩(wěn)定,適合高端納米金剛石涂層應(yīng)用,為航空制造業(yè),精密模具及拉絲模具,BDD 電極等廣泛應(yīng)用 。該設(shè)備已生長大尺寸片狀多晶金剛石厚膜,填補(bǔ)了**,并獲得了非??捎^的經(jīng)濟(jì)效益。
產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)及科研
大面積平板鍍膜設(shè)備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)