粉體行業(yè)在線展覽
鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設(shè)備ZDF3200
面議
北京泰科諾
鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設(shè)備ZDF3200
252
鍍膜方式:蒸發(fā)
腔室結(jié)構(gòu):方箱式
工藝室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm
進(jìn)樣室:500mm×600mm×400mm
過渡室:500mm×600mm×400mm
極限真空:6×10-5pa
基片臺尺寸:300mm×400mm
基片溫度:常溫
均勻性:≤±5.0%
濺射靶:低溫和高溫線源配置
控制:PC
點地面積:4000mm×2500mm×2200
功率:70KW三相五線制
1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計優(yōu)化,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池等各種膜層的制備;
如:鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備;
大面積平板鍍膜設(shè)備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
EXAKT 80E