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高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650

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北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

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面議

品牌：

北京泰科諾

型號(hào)：

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650

關(guān)注度：

259

產(chǎn)品介紹

基片臺(tái)尺寸：抽屜式：150mm×120mm 可旋轉(zhuǎn)、升降

膜厚不均勻性：≤ ±5.0%（120mmx120mm 范圍內(nèi)）

濺射靶：6英寸3只

濺射靶電源：1臺(tái)RF，2臺(tái)DC

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )

占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )

總功率：≥15kW 三相五線制

產(chǎn)品咨詢

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650

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