主要優(yōu)勢

清洗藥液獨(dú)立控制，無交叉污染

噴嘴藥液流量精確控制系統(tǒng)

較低的使用成本

優(yōu)秀的清洗效果

可應(yīng)用不同種晶圓清洗工藝，*終清洗，外延前清洗，CMP后清洗

高產(chǎn)能

對(duì)小顆粒的管控和金屬管控能力，19納米顆粒增加值<=30顆，金屬污染<=5E7 atmos/cm2

特性和規(guī)格

可適用于6寸、8寸或12寸晶圓清洗

*多可配置8套清洗腔體

*多可配置5種藥液進(jìn)行清洗工藝，RCA藥液，氫氟酸，臭氧水，去離子水等。

可對(duì)基板片，外延片的清洗工藝

產(chǎn)品咨詢

單片清洗設(shè)備

盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

請(qǐng)?zhí)顚懩男彰?

請(qǐng)?zhí)顚懩碾娫挘?

請(qǐng)?zhí)顚懩泥]箱：*

請(qǐng)?zhí)顚懩膯挝?公司名稱：*

請(qǐng)?zhí)岢瞿膯栴}：*

您需要的服務(wù)：

詢盤報(bào)價(jià)、價(jià)格查詢

發(fā)送產(chǎn)品資料

與您電話聯(lián)系

中國粉體網(wǎng)保護(hù)您的隱私權(quán)：請(qǐng)參閱我們的保密政策來了解您數(shù)據(jù)的處理以及您這方面享有的權(quán)利。您繼續(xù)訪問我們的網(wǎng)站，表明您接受我們的使用條款