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>無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備

無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備

無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備

直接聯(lián)系

盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司

美國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

盛美半導(dǎo)體

型號(hào):

無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備

關(guān)注度:

986

產(chǎn)品介紹

??

主要優(yōu)勢(shì)

工藝過(guò)程低應(yīng)力

低耗材成本COC和運(yùn)營(yíng)成本COO

低排放可保護(hù)環(huán)境


特性和規(guī)格

整合了無(wú)應(yīng)力拋光、化學(xué)機(jī)械研磨、濕法刻蝕、干法刻蝕工藝

電拋光液和濕法刻蝕液可實(shí)時(shí)循環(huán)使用

減少化學(xué)和耗材使用量

設(shè)備尺寸(mm):4100(長(zhǎng))*2600(寬)*2650(高)


關(guān)鍵應(yīng)用

序號(hào)應(yīng)用描述使用化學(xué)
1雙大馬士革工藝超低K銅互連CMP+SFP+Clean+TFESlurry,Electrolyte,DHF,Xef2
2雙大馬士革工藝5nm及以下釕阻擋層互連結(jié)構(gòu)CMP+SFP+Clean+Wet EtchSlurry,Electrolyte,Etchant
3晶圓級(jí)封裝
(3D硅通孔,2.5D轉(zhuǎn)接板,再布線(xiàn),扇出)
CMP+SFP+Clean+Wet EtchElectrolyte,Slurry,Etchant


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無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備

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