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面議
583
英國Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)Vapour Station 4
微納器件樣品制備系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
該電子束蒸發(fā)鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統(tǒng),為有機(jī)無機(jī)多源有 氣相分子沉積系統(tǒng),高真空條件下,通過加熱材料的方法,在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜,具有高真空多源有機(jī)、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作,主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能, 研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)也可用于普通金屬電極蒸發(fā)鍍膜研究;
真空室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼,氬弧焊接、采用先進(jìn)鈍化處理工藝?;_尺 寸:3 英寸,配備一套 TELEMARK 的單袋電子束靶槍一套;鍍膜室用一臺 高精度石英晶振膜厚監(jiān)測儀進(jìn)行薄膜厚度監(jiān)測,配備有原裝石英晶振探頭; 鍍膜生長室放置2個(gè)熱阻蒸發(fā)舟,是一款真空高性價(jià)比的電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)。
尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)
真空腔體:
真空腔體要求:**樣品尺寸為 3 英寸,樣品臺直徑為 75mm; 薄膜均勻性≤±1%;
極限壓力:真空腔室薄膜**真空度<3×10-7 mbar;
真空計(jì):真空測量系統(tǒng),寬范圍的真空規(guī),**真空度小于 3×10-7mbar;
樣品夾:真空腔體里配有樣品夾,能夠固定住樣品;
擋板:真空腔體里配有沉積擋板,工作時(shí)能區(qū)分開不同樣品;
蒸發(fā)樣品池:配置單袋容量 1.5cc 的電子束靶槍,電源功率為3KW ;
蒸發(fā)舟:2個(gè)熱蒸發(fā)鎢舟,用于沉積一些熱蒸發(fā)材料;
薄膜監(jiān)測儀:
.電腦控制的薄膜監(jiān)測儀,能實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度情況;
.測量頻率范圍至少包含6.0 to 5.0 MHz這個(gè)范圍;
.頻率分辨率應(yīng)≤±0.03 Hz (at 6 MHz); 測量間隔應(yīng)≤0.10 s;厚度顯示分辨率≤1 ?;
真空系統(tǒng):
.真空系統(tǒng)組成:應(yīng)至少包含一臺干式渦旋泵和一臺渦輪分子 泵,美國安捷倫干式渦旋泵作為前級泵;
.愛德華渦輪分子泵:
-N2抽速:240 L/s;
-極限真空(ISO):<6×10-8mbar;
-強(qiáng)制空氣冷卻,35°C,環(huán)境溫度:30sccm;
-標(biāo)稱旋轉(zhuǎn)速度:60000rpm;
-待機(jī)旋轉(zhuǎn)速度范圍:33000-60000rpm;
-可編程功率限制范圍:50-200W
-強(qiáng)制空氣冷卻的環(huán)境空氣溫度:5-35°C;
-噪音級別:<45dB(A)
冷卻方式包含有風(fēng)冷和水冷兩種方式可供提前選擇;
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)