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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-700

科研級磁控濺射設(shè)備—MS-700

直接聯(lián)系

合肥致真精密設(shè)備有限公司

安徽

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價：

面議

品牌：

致真精密

型號：

科研級磁控濺射設(shè)備—MS-700

關(guān)注度：

630

產(chǎn)品介紹

MS-700磁控濺射設(shè)備是一款具有多功能、多陰極的磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度的特點。可根據(jù)需求配置4inch以下的圓形陰極，可選擇垂直濺射、自動傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚測量等配置。適用于研發(fā)和生產(chǎn)需要多靶濺射的中高精度的工藝需求。

性能參數(shù)

晶圓尺寸

4inch-6inch

鍍膜均勻性

優(yōu)于±2%

極限真空

優(yōu)于5×10-10mbar（金屬密封）

優(yōu)于5×10-9mbar（膠圈密封）

溫控

RT-800℃，可選**1200℃

陰極數(shù)量

12個2inch 或  6個4inch，共焦濺射

電源

DC、RF、DC Pulse

沉積精度                    

0.1nm

占地面積

4m L*3m W*2.5m H

可選

低溫泵、垂直濺射、自動傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚儀、RGA、工藝菜單等


產(chǎn)品咨詢

科研級磁控濺射設(shè)備—MS-700

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