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濺射離子槍?zhuān)入x子體發(fā)生源

直接聯(lián)系

中昊清遠(yuǎn)（北京）科技有限公司

德國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

關(guān)注度：

903

產(chǎn)品介紹

濺射離子槍主要用途:

反應(yīng)離子刻蝕

技術(shù)指標(biāo):

離子能量	25eV - 5keV
總的離子束電流	1mA (at 5kV with Argon) High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)
電流密度	120μA/cm2 at 100mm working distance
離子束發(fā)散角	Ion energy dependant (typically 15°)
工作距離	100 mm (typically)
等離子體杯	Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)
氣體進(jìn)氣口徑	CF-16 (1.33“OD)
氣體流速	1 - 5 sccm (1，5 sccm typical， gas dependant)
工作真空度	10^-6mbar - 10^-3mbar (1x10^-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10^-6mbar range possible - beam current then 140μA max.
激發(fā)模式	微波放電等離子體 (無(wú)燈絲)
安裝口徑	CF-35 (2.75“OD)
槍直徑	34mm (真空端)
泄露閥	需要?dú)怏w質(zhì)量流量計(jì)

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濺射離子槍?zhuān)入x子體發(fā)生源

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