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品牌：恩科優(yōu)（N&Q）

型號：NXQ400-8

產(chǎn)地：美國

恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統(tǒng)，現(xiàn)代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的**；

二、技術參數(shù)：

1、芯片尺寸：5mm~200mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設計）；

2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；

3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；

4、分辨率：優(yōu)于0.5um；

5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；

6、出射光強范圍：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光強或恒定功率模式；

8、曝光時間：0.1~999.9s；

9、對準精度：雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器，對準精度可達到0.4微米內(nèi)；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器)；

11、光強均勻性Uniformity：

<±1% over 2”區(qū)域；

<±2% over 4”區(qū)域；

<±3% over 6”區(qū)域；

12、雙面光刻：具備背面紅外對準（IR BSA）和光學背面對準（OBS BSA），雙面對準精度≤2μm；

13、電源：高靈敏度光強可控電源。

可選型號：

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、產(chǎn)品特點：

可選支持單面對準和雙面對準設計；

高清晰彩色雙CCD鏡頭采用***的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠修正的CCD鏡頭設計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；

高清彩色雙顯示屏；

全新氣動軸承導軌設計，高精準，低磨損，無需售后維護的；

具有自動執(zhí)行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；

操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；

操控手柄調(diào)控模式的獨特設計；

采用LED穿透物鏡照明技術，具有超強對準亮度；

采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；

抗衍射反射的高效光學光路設計；

帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；

全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度；

設備穩(wěn)定性，耐用性超高；