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普發(fā)真空APA污染管理解決系統(tǒng)

直接聯(lián)系

普發(fā)真空技術(shù)(上海)有限公司

德國

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產(chǎn)品介紹

污染管理解決方案

行業(yè)污染管理

污染管理系統(tǒng)是我們專門為半導(dǎo)體和制藥行業(yè)**開發(fā)的。憑借普發(fā)真空多年來作為真空技術(shù)供應(yīng)商的經(jīng)驗(yàn),已經(jīng)使我們對生產(chǎn)體系的工藝、設(shè)備以及環(huán)境的專有技術(shù)和理解完全成形?;谶@一認(rèn)識,我們已開發(fā)了能夠識別并*小化污染以及提高工藝每個(gè)步驟產(chǎn)量的解決方案。歸根結(jié)底,我們知道,具有科學(xué)認(rèn)識的高級分析是分子層面含有污染的關(guān)鍵所在。

普發(fā)真空的污染管理方案提高了敏感器件生產(chǎn)各個(gè)工藝步驟的產(chǎn)量及良率。

普發(fā)真空創(chuàng)新的解決方案

為保證生產(chǎn)質(zhì)量和高產(chǎn)量,對器件包裝中的污染物及其直接環(huán)境的認(rèn)識是十分重要的。

在半導(dǎo)體行業(yè),通過 APA 302,可以在處理周期內(nèi)進(jìn)行連續(xù)性的分析。而 ADPC 302 全自動(dòng)化的工藝則能夠在運(yùn)輸載體的內(nèi)表面上對粒子進(jìn)行定位和計(jì)數(shù)。至于 APR 4300,在此基礎(chǔ)上甚至更進(jìn)了一步。

污染是如何發(fā)生的?

在半導(dǎo)體行業(yè),在運(yùn)輸和等待期間,晶圓發(fā)射出了反應(yīng)副產(chǎn)品。通過氣流傳播的水分和分子污染物(空氣分子污染物,簡稱 AMC),例如氟化氫 (HF),在運(yùn)輸箱(吊艙系統(tǒng))的狹隘間隙里與環(huán)境空氣中的氧化劑(H2O 和 O2) 發(fā)生反應(yīng)。在這些反應(yīng)中,生長在結(jié)構(gòu)化晶片上那些不需要的晶體被觸發(fā),從而導(dǎo)致了質(zhì)量的下降和產(chǎn)量的減少。在制藥行業(yè),比如濕度、氧氣或微生物侵入等污染可以在整個(gè)產(chǎn)品生命周期影響藥物穩(wěn)定性。

APA 302

在潔凈室環(huán)境下,APA 302 是用于先進(jìn)芯片制造的獨(dú)特在線監(jiān)測工具。這臺革新性設(shè)備可以測量 FOUP 和周圍環(huán)境中的空氣分子污染物(簡稱 AMC)。該測量實(shí)時(shí)發(fā)生,在 ppbv 范圍內(nèi)具有很高的靈敏度。

有效的污染監(jiān)測

水分和空氣分子污染物 (AMC),例如,氟化氫 (HF),于等待時(shí)間內(nèi),在 FOUP 槽對槽的空間里被釋放出來。而這些元素會在圖樣晶圓上生成晶體生長,從而導(dǎo)致產(chǎn)量的損失和性能的退化。普發(fā)真空的 APA 302 通過 FOUP 過濾器來對 AMC 進(jìn)行采樣。在 ppb 的范圍內(nèi),通過離子遷移光譜儀、火焰離子化檢測、熒光紫外線或光腔衰蕩光譜技術(shù),測量在 2 分鐘內(nèi)發(fā)生,具有高靈敏度。而當(dāng)負(fù)載端口上沒有 FOUP 時(shí),APA 302 會監(jiān)控周圍的潔凈室環(huán)境。

FOUP 環(huán)境的可靠分析

為了保證性能,SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配備了自動(dòng)校準(zhǔn)功能,它會在定期的時(shí)間間隔內(nèi)被激活。對于在 APA 中對 AMC 的監(jiān)控,可在有晶圓或無晶圓的 POD 中執(zhí)行。FOUP 可以手動(dòng)傳送,也可通過 2 個(gè)負(fù)載端口上的懸掛式起重運(yùn)輸 (OHT) 來傳送。因此,可優(yōu)化各工藝步驟間的等待時(shí)間,污染的增加量能立刻被察覺到,且產(chǎn)量增加。

尺寸

APR 4300

APR 4300 可在分子層面上凈化 300 mm 的晶圓以及它們的運(yùn)輸箱 (FOUP),并在等待時(shí)間內(nèi)保護(hù)它們。

可靠的凈化處理和預(yù)防污染

APR 是一個(gè)在等待時(shí)間內(nèi)凈化晶圓并防止污染的系統(tǒng)??諝夥肿游廴疚铮ê喎Q AMC)降低了半導(dǎo)體生產(chǎn)中的產(chǎn)量和質(zhì)量而 APR 則能有效地防止晶圓和輸送箱表面吸附被污染的有機(jī)或無機(jī)分子。通過在 APR 室里進(jìn)行疏散,吸附概率大幅度減少。晶圓廠可通過這種方式顯著地增加產(chǎn)量,且各個(gè)工藝步驟之間的等待時(shí)間也會得到優(yōu)化。

APR 是如何工作的?

FOUP 既可以手動(dòng)傳送,也可通過 2 個(gè)裝載端口上的懸掛式起重運(yùn)輸 (OHT) 來傳送。APR 是一個(gè)帶有四疊真空室的系統(tǒng),用于對晶圓和 FOUP 作凈化去污處理,這項(xiàng)工作由一個(gè)可靠的機(jī)器人來擔(dān)任。所有腔室都配備了真空泵站、氣箱、操作面板以及帶電源的控制器。且這些腔室均可以單獨(dú)地進(jìn)行操作。當(dāng)把含有晶圓的 FOUP 裝載到腔室以后,腔室中的壓力減少到 0.1 mbar。然后進(jìn)行去污凈化處理。之后,該腔室采用潔凈的氮?dú)膺M(jìn)行吹掃并恢復(fù)到大氣壓。此時(shí),這些晶圓以及運(yùn)輸箱不受污染已超過一天。

尺寸

ADPC 302

ADPC 302 是一款在半導(dǎo)體領(lǐng)域獨(dú)特的用于粒子污染監(jiān)測的過程內(nèi)污染管理系統(tǒng)。

高效粒子監(jiān)測

亞微米粒子會造成可能導(dǎo)致相當(dāng)大產(chǎn)量損失的缺陷。即使是測量值為 0.1 μm 的*小粒子,也可能會損壞半導(dǎo)體芯片的結(jié)構(gòu)。創(chuàng)新的 ADPC 302 可測量晶片傳送載體內(nèi)的粒子數(shù)量(前開式晶圓傳送盒 FOUP,前開式裝運(yùn)箱 FOSB)。全自動(dòng)的**工藝從載體表面(包括門)對粒子進(jìn)行定位和計(jì)數(shù)。

得益于**的晶圓,該系統(tǒng)可用于成批生產(chǎn)和研發(fā)分析。主要應(yīng)用是載體特征化、清洗策略優(yōu)化和清洗質(zhì)量檢查。

與傳統(tǒng)濕法相比較(液體顆粒計(jì)數(shù)器),ADPC 的干式工藝(干式粒子計(jì)數(shù)器)顯示出了明顯的優(yōu)勢。干式工藝的主要優(yōu)勢在于粒子測量是完全自動(dòng)的。它是在生產(chǎn)過程中集成的,因此不再需要生產(chǎn)周期之外的時(shí)間。有了全自動(dòng)測量,該過程無需額外的操作員。測試時(shí)間只需 7分鐘,意味著 ADPC 302 的速度是傳統(tǒng)系統(tǒng)的 4 倍??稍?1 個(gè)小時(shí)內(nèi)測試 8 個(gè)運(yùn)輸箱。

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