粉體行業(yè)在線展覽
HFCVD 熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
面議
鵬城微納
HFCVD 熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
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HFCVD 熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備(熱絲CVD金剛石設(shè)備)-(生產(chǎn)型、實驗型)
研發(fā)設(shè)計制造了熱絲
工件尺寸
圓形平面工作的尺寸:**φ600mm。
矩形工作尺寸的寬度1000mm/長度可根據(jù)鍍膜室的長度確定(如:工件長度1500mm)。
配置水冷樣品臺。
可單面鍍膜也可雙面鍍膜。
金剛石薄膜生產(chǎn)線
熱絲電源功率
可達300KW,1KW ~300KW可調(diào)(可根據(jù)用戶工藝需求配置功率范圍)
設(shè)備安全性
-電力系統(tǒng)的檢測與保護
-設(shè)置真空檢測與報警保護功能
-冷卻循環(huán)水系統(tǒng)壓力檢測和流量檢測與報警保護
-設(shè)置水壓檢測與報警保護裝置
-設(shè)置水流檢測報警裝置
熱絲CVD金剛石設(shè)備
設(shè)備構(gòu)成
真空室構(gòu)成
雙層水冷結(jié)構(gòu),立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形,前后開門,真空尺寸,根據(jù)工件尺寸和數(shù)量確定。
熱絲
熱絲材料:鉭絲、或鎢絲
熱絲溫度:1800℃~ 2500℃ 可調(diào)
樣品臺
可水冷、可加偏壓、可旋轉(zhuǎn)、可升降 ,由調(diào)速電機控制,可實現(xiàn)自動升降,(熱絲與襯底間距在5 ~ 100mm范圍內(nèi)可調(diào)),要求升降平穩(wěn),上下波動不大于0.1mm。
工作氣路(CVD)
工作氣路根據(jù)用戶工藝要求配置:
下面氣體配置是某一用戶的配置案例。
H2(5000sccm,濃度100%)
CH4(200sccm,濃度100%)
B2H6(50sccm,H2濃度99%)
Ar(1000sccm,濃度100%)
真空獲得及測量系統(tǒng)
控制系統(tǒng)及軟件
團簇式OLED真空蒸鍍工藝裝備
金剛石散熱晶圓片
分子束外延薄膜生長設(shè)備(MBE)
MOCVD 金屬有機化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PECVD 等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備
LPCVD 低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
HFCVD 熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機
高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機
高真空磁控濺射儀
化合物半導(dǎo)體