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W-180A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
面議
鉑世光
W-180A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
518
系統(tǒng)參數(shù):
型號(hào) | W-180系列 | |
供電電源 | AC380±10% 三相五線制 50Hz/60Hz | |
系統(tǒng)總功率 | 14KW | |
微波輸出功率 | 2-10KW | |
微波工作頻率 | 2.45GHz | |
反應(yīng)腔 | 不銹鋼諧振腔 | |
整機(jī)真空氣密性 | ≤1.33×10-10 Pa·m3/s (≤1×10-9 Torr L/s) | |
沉積臺(tái)類型 | 水冷式沉積臺(tái) | |
有效沉積面積 | **沉積面積Ф≥3英吋(76mm) | |
工作壓力范圍 | 1-32Kpa (10Torr-220Torr) | |
自動(dòng)壓力控制精度 | ±15 Pa (≈0.12 Torr) | |
真空泵抽速 | 旋轉(zhuǎn)真空油泵(30m3/h) | |
標(biāo)準(zhǔn)氣路 | 五路MFC氣路(可選配) | |
微波泄漏功率密度 | ≤1mw/cm2 | |
控制系統(tǒng) | PDS-MPCVD控制系統(tǒng) | |
觀察窗 | ICF70 4個(gè),ICF34 4個(gè) | |
運(yùn)行工作環(huán)境 | 恒溫20℃-24℃ | |
冷卻水流量 | <41 L/min流量可調(diào) | |
系統(tǒng)重量 | 500±5KG |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等離子刻蝕機(jī)