粉體行業(yè)在線展覽
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直接聯(lián)系
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
英國
面議
907
小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設(shè)計開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。 |
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板 的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。 |
| 產(chǎn)品特點 | |
Focus Lock自動對焦功能 Focus lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。 |
標(biāo)記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。 | 別直寫前預(yù)檢查 軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。 |
簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計軟件 ?可以讀取多種圖形設(shè)計文件（DXF， CIF， GDSII， 等） ?可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式 ?書寫范圍只由基片尺寸決定 |
| 產(chǎn)品參數(shù) |
為了更好滿足客戶需求，同時節(jié)省客戶采購成本，第三代Microwriter分為三個型號，基本型，增強(qiáng)型，旗艦型： |
| 應(yīng)用案例 | |
直寫分辨率1μm | |
直寫分辨率0.6μm | |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
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