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儀器簡(jiǎn)介：

應(yīng)用：

◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動(dòng)沉積工藝。

技術(shù)參數(shù)：

SKY公司的C1 PECVD設(shè)備是買斷Novellus C1型號(hào)的技術(shù)授權(quán)在國內(nèi)生產(chǎn)的PECVD設(shè)備，所有性能指標(biāo)均和美國原產(chǎn)地Novellus C1相同，配件國產(chǎn)率超過70%。 SKY公司依托Novellus公司的技術(shù)授權(quán)，擁有本地及回國人員組成的強(qiáng)大技術(shù)團(tuán)隊(duì)，目前產(chǎn)品主要應(yīng)用于4~6”主流硅半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體及MEMS領(lǐng)域。

主要特點(diǎn)：

◆ 高度穩(wěn)定的均勻性；

◆ 高度穩(wěn)定的折射率；

◆ Novellus技術(shù)授權(quán)；

◆ 零部件國產(chǎn)化及穩(wěn)定的零部件供應(yīng)；

◆ 菜單式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動(dòng)沉積工藝；

◆ 真空室（沉積室）等離子體自動(dòng)刻蝕清洗；

◆ 雙頻RF/LF電源發(fā)生器；

◆ 阻抗匹配器自動(dòng)調(diào)節(jié)；

◆ 單腔（七片）、連續(xù)（七十五片）自動(dòng)轉(zhuǎn)換沉積。