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磁控濺射系統(tǒng)

直接聯(lián)系

German First-Nano System 德國(guó)韋氏納米

美國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

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面議

關(guān)注度：

645

產(chǎn)品介紹

磁控濺射技術(shù)

GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：

帶有水冷或者加熱(**可加熱到700度)功能，**到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，**可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體，2個(gè)2"的磁控管，DC直流電源用于濺射金屬，并帶有膜厚監(jiān)測(cè)儀(選配)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門(mén)易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制
完全的安全聯(lián)鎖功能

選配項(xiàng)：

Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測(cè)

應(yīng) 用：

SEM應(yīng)用
濺射金屬，**到6"的晶圓片

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磁控濺射系統(tǒng)

German First-Nano System 德國(guó)韋氏納米

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