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低壓化學氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)

直接聯(lián)系

上海載德半導體技術有限公司

韓國

產(chǎn)品規(guī)格型號

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產(chǎn)品介紹

擴散爐、低壓化學氣相沉積設備(LPCVD)

產(chǎn)地：韓國；

有單管和雙管兩個不同的型號，用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn)。

性能和特點：

- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度；

- 氣體混合能力(帶有質量流量計)；

- 真空范圍：~ 10^-6 Torr；

典型應用：

- 無應力氮化硅；

- LPCVD；

- 退火；

- 氧化；

- 其他...

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低壓化學氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)

上海載德半導體技術有限公司

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