粉體行業(yè)在線展覽
W-380A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
面議
鉑世光
W-380A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
364
系統(tǒng)特點: |
·采用方位換向?qū)ΨQ方式微波耦合,來提高微波的均勻性 |
·穩(wěn)定沉積面積44cm2/80cm2 |
·**功率達(dá)到8KW/10KW |
·使用純凈的石英窗 |
·采用特殊鋁合金反應(yīng)腔,能耐高溫(碟形) |
·高壓力控制,產(chǎn)生高密度多模式等離子體(碟形) |
·使用高精度氣體質(zhì)量流量計,高可靠性穩(wěn)定的壓力控制系統(tǒng) |
·穩(wěn)定的微波輸入 |
設(shè)備的優(yōu)勢: |
·反應(yīng)可控,能長時間穩(wěn)定工作在8KW/10KW |
·所有電子設(shè)備中采用微波,沒有電極放電,沒有金屬污染 |
·參照C/H/O比例表,對反應(yīng)物有更大的選擇余地 |
·采用高效散熱的樣品臺,**散熱能力可達(dá)20KW以上 |
·高效率微波利用率,氫等離子體直接作用于樣品臺加熱時效率可達(dá)75%以上 |
·高可靠性,高實驗重復(fù)性,高設(shè)備耐久性 |
·簡捷的人機(jī)交互界面 |
應(yīng)用: |
·寶石 |
·復(fù)合熱沉片 |
·精密加工刀具刀頭 |
·紅外光學(xué)窗口 |
·半導(dǎo)體wafer |
·生物電極 |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)