粉體行業(yè)在線展覽
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
面議
杰萊特
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
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工藝參數(shù):
一,真空系統(tǒng)
1、極限真空度:4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鐘
3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
二,控制精度
1、靶材旋轉(zhuǎn):0.005°
2、工件旋轉(zhuǎn):<1000RPM
3、編碼器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板:0.005°
5、擋板: position switch
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
HSE系列等離子刻蝕機