粉體行業(yè)在線展覽
垂直離子濺射鍍膜機(jī)
面議
杰萊特
垂直離子濺射鍍膜機(jī)
321
型號:IBSV-1030
特點:
a)基板垂直放置,水平監(jiān)控;
b)轉(zhuǎn)靶左右可調(diào),保證靶面中心和離子源**距離;
c)基板:12吋×1 ;
d)靶材:兩靶或三靶可更換;
e)多光路監(jiān)控。
f)工件夾具:12吋
工藝參數(shù):
1)真空系統(tǒng)
a)極限真空度:4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用時間 10 Pa:≦ 10 分鐘
c)漏率:3.0×10-5Pa m3/se
型號:IBSV-1030
特點:
a)基板垂直放置,水平監(jiān)控;
b)轉(zhuǎn)靶左右可調(diào),保證靶面中心和離子源**距離;
c)基板:12吋×1 ;
d)靶材:兩靶或三靶可更換;
e)多光路監(jiān)控。
f)工件夾具:12吋
工藝參數(shù):
1)真空系統(tǒng)
a)極限真空度:4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用時間 10 Pa:≦ 10 分鐘
c)漏率:3.0×10-5Pa m3/se
濺射鍍膜設(shè)備
垂直離子濺射鍍膜機(jī)1
水平離子鍍膜機(jī)
水平離子濺射鍍膜機(jī)
垂直離子濺射鍍膜機(jī)
離子濺射鍍膜設(shè)備
電子槍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
水平離子濺射鍍膜設(shè)備
垂直離子濺射鍍膜設(shè)備
垂直鍍膜機(jī)
垂直離子鍍膜機(jī)
離子鍍膜設(shè)備
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
HSE系列等離子刻蝕機(jī)