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無掩膜光刻機(jī)
面議
安徽澤攸
無掩膜光刻機(jī)
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澤攸科技無掩膜光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備,它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形,而是通過計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光,形成所需的微細(xì)圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
技術(shù)特點(diǎn)
▲ 納米壓電位移臺(tái)拼接技術(shù)
▲ 紅光引導(dǎo)曝光,所見即所得
▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量
▲ CCD相機(jī)逐場(chǎng)自動(dòng)聚焦
▲ 灰度勻光技術(shù)
光路遠(yuǎn)離結(jié)構(gòu)圖
主要指標(biāo)
應(yīng)用案例
無掩膜光刻機(jī)
電子束光刻機(jī)
手動(dòng)臺(tái)階儀 JS10B
半自動(dòng)臺(tái)階儀 JS100B
全自動(dòng)臺(tái)階儀 JS3000B
SEM電池臺(tái)
ZEM Ultra場(chǎng)發(fā)射臺(tái)式掃描電鏡
透射電子顯微鏡樣品桿預(yù)抽存儲(chǔ)系統(tǒng)
SEM納米探針臺(tái).
SEM冷凍真空傳輸系統(tǒng)
SEM熱電芯片臺(tái)
壓電物鏡NF100LA
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
HSE系列等離子刻蝕機(jī)