主要優(yōu)勢

槽式SPM清洗模塊與單片清洗腔體相結(jié)合來進行去膠工藝。SPM的壽命可通過使用時間和工藝片數(shù)來控制?，F(xiàn)階段，SPM的使用量跟單片高溫清洗設(shè)備相比能減少80%以上。

單片晶圓腔體內(nèi)可配置通用藥液比如DHF,SC1,SC2和O3?？砂匆笈渲脟娮旌?或者兆聲波清洗來提高去除顆粒污染物的效率。

工藝的順序可靈活設(shè)置，該設(shè)備可按照不同的產(chǎn)品需求進行槽式清洗工藝或者只進行單片清洗工藝。

產(chǎn)品咨詢

TAHOE清洗設(shè)備

盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

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