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Elionix離子束刻蝕系統(tǒng)

直接聯(lián)系

上海納騰儀器有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號

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產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品名稱：離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：Elionix

型號：EIS-200

關鍵詞標簽：離子束蝕刻，干法蝕刻，離子束轟擊，離子束減薄

簡短描述：（<40字）：利用ECR技術產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速，對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

一、簡介

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、鍍膜等。

EIS-200原理：

利用ECR技術產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達樣品表面，對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優(yōu)點：

?方向性好，各向異性，陡直度高，側向刻蝕少

?分辨率高

?不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進行蝕刻

?可控制蝕刻Taper角

?可以設定多樣的實驗條件

二、主要功能

l主要應用

納米級圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

表面清潔

離子減薄

l技術能力

離子槍	ECR型離子槍
離子化氣體	Ar、Xe等、惰性離子氣體
離子化氣體	N₂、O₂、CF₄等、活性離子氣體
加速電壓	100V～3000V 連續(xù)可變（高加速電壓可選) (輸出電流20mA MAX)
離子束流密度	Ar:1.5mA/cm²以上 (2kV加速時）
離子束流密度	O₂:2.0mA/cm²以上 (2kV加速時）
離子束有效直徑	Φ20mm（FWHM35mm)
離子束穩(wěn)定度	±3％/2H
大樣品尺寸	Φ4英寸

三、應用

納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

?SiO2 on Si substrate

?Diamond Substrate（金剛石）

?Quartz (Mask)

?Oriented PET film

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Elionix離子束刻蝕系統(tǒng)

上海納騰儀器有限公司

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