粉體行業(yè)在線展覽
半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器
W-180A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
W-180A-10K 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)643
ASML二手ARF光刻機(jī)AT 1150
ASML二手ARF光刻機(jī)AT 1150639
小圓柱式微波等離子體沉積(CVD)系統(tǒng)
小圓柱式微波等離子體沉積(CVD)系統(tǒng)639
主動隔振系統(tǒng)(電子顯微鏡、半導(dǎo)體設(shè)備專用)
主動隔振系統(tǒng)(電子顯微鏡、半導(dǎo)體設(shè)備專用)639
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型637
UP-510 碟形腔式MPCVD設(shè)備
UP-510 碟形腔式MPCVD設(shè)備635
德Eulitha電子束光刻機(jī)Phable R100 system
634
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB634
德國Sentech等離子體沉積機(jī)PECVD Depolab 200
630