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AFIXX 20m手動系統(tǒng)

臺式系統(tǒng)設計用于手動將單個基板臨時粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專為實驗室開發(fā)的臨時粘合技術。這是一個多功能系統(tǒng)，非常適合許多R＆D應用程序。AFIXX 20m配備有加熱板，可將載體或基材加熱到200℃。

特點：

適用于圓形晶圓片或方形基片；

基片尺寸：**到直徑200mm（直徑8英寸）或150x150 mm（6 x6英寸），圓形晶圓片可選：直徑300毫米（直徑12英寸）；

帶加熱板，**200℃；

適用于非常薄的易碎晶圓（<40 um）和柔性塑料材料；

激光標記可準確對準晶圓和載體；

手動調(diào)節(jié)水平；

與硅，化合物和玻璃材料兼容；

專為研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設計；

應用：

將基材臨時粘合到不同類型的載體上：

基板上的基板

玻璃載體上的基板

藍寶石載體上的基板

陶瓷載體上的基材

不同的粘合劑，例如：

蠟＞通過熱處理激活

粘合劑>受溫度和溶劑的影響，活化

產(chǎn)品參數(shù)：

基板尺寸：**直徑200mm（直徑8英寸）或150x 150 mm（6 x 6英寸）

設備外殼：PP材質(zhì)

工作臺表面：微拋光不銹鋼和陽極氧化鋁材質(zhì)

電源：230（110）VAC / 1Phase/ N / PE / 50（60）Hz

真空：-0.8 bar / -600 Torr，管外徑8 mm，內(nèi)徑6 mm

控制臺：350x 350 x 372毫米（13.8 x 13.8x 14.6英寸）

加熱板模塊：350x 411 x 207毫米（13.8 x 16.2x 8.2英寸）

主營產(chǎn)品：

Laurell勻膠機

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)

Wabash/Carver自動壓片機