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桌面式磁控濺射設備—MS-200

桌面式磁控濺射設備—MS-200

直接聯(lián)系

合肥致真精密設備有限公司

安徽

產品規(guī)格型號
參考報價：

面議

品牌：

致真精密

型號：

桌面式磁控濺射設備—MS-200

關注度：

723

產品介紹

　　MS-200磁控濺射設備是一款小型臺面式濺射系統(tǒng)，具有高真空、單原子層沉積精度的特點，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配1個2英寸超高真空陰極。滿足簡單的材料研究需求。

晶圓尺寸

4inch向下兼容

鍍膜均勻性

優(yōu)于±2%

極限真空

1×10-8mbar

溫控

RT-800℃

陰極數(shù)量

3個2inch靶頭共焦濺射


產品咨詢

桌面式磁控濺射設備—MS-200

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桌面式磁控濺射設備—MS-200 - 723
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